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    雙面光刻機廠家

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    中國電子科技集團公司第四十五研究所

    • 聯(lián)系人:李斌
    • 官網(wǎng)地址:www.45inst.com
    • 經(jīng)營模式:其他機構(gòu)
    • 主營產(chǎn)品:硅片甩干機,探針測試臺,硅片清洗刻蝕設(shè)備,太陽能光伏制造設(shè)備價格,激光打孔機價格
    • 所在地:北京市#北京市北京市大興區(qū)亦莊經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)泰河三街1號
    • 供應產(chǎn)品:142
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    雙面曝光機是利用紫外線將上下掩膜版的圖形同時轉(zhuǎn)移到涂有光刻機的晶圓的上下表面。該型產(chǎn)品針對半導體光電器件、功率器件、傳感器、混合電路、微波器件及MEMS等制作的雙面對準和曝光,可實現(xiàn)2-4英寸晶圓的曝光加工能力。    


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